产品名称：JGP系列磁控溅射系统

生产单位：中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司
型　　号：JGP-450、JGP-560单室、JGP-560双室、

特    点：设备用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。

技术指标：

1、极限压力：主溅射室：6.67X10^-6 Pa；进样室：≤6.67X10^-4 Pa

2、恢复真空时间：主溅射室：40分钟可达到6.6X10^-4 Pa；进样室：40分钟可达到6.6X10^-3 Pa

3、磁控靶组件：靶材尺寸：Φ60mm；靶与样品距离40～80mm可调

4、基片水冷加热公转台：样品尺寸：Ф30，可放置6片；基片加热最高温度600°C±1°C

价    格：￥30—55万

仪器（设备）所属领域：真空应用科研类设备

应用领域：可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料科研与小批量制备。

联系方式：电话：024-23826855、6860、6899 传真：024-23826856
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